現像液の脱気をターゲットとした現像液脱気ユニット‘RDOシリーズ’です。
半導体業界、液晶業界の各メーカー様より、厚いご信頼とご好評をいただいております。
特長
- 既存の設備への後付けが可能です。
- コンパクト設計により場所を取りません。
- 脱気幕によるインライン脱気方式です。
- 高い脱気性能を発揮します。
- 脱気レベルを一定水準に維持します。
- 漏水異常、モジュール漏水異常、真空度異常を検知する安全仕様です。
- 現像液ラインを2系統まで内蔵可能にする2ノズル対応です。
用途
- 半導体・液晶製造、現像工程に使用される現像液の脱気、脱泡。
概要
- 半導体・液晶製造工程において使用される現像液の圧送方法は、クリーン・流量安定の側面から、主に窒素加圧方法が採用されます。しかし窒素で加圧するため現像液中に窒素(N2)が溶け込み、環境の変化(圧力・気温)により、溶存窒素が気泡(Bubble)に戻ってしまいます。気泡が現像液に混入すると、さまざまな不具合を引き起こします。
- 気泡(Bubble)による不具合
・ 微細部に現像液が浸透しない
・ パーティクル(Particle)の増大
・ 流量不安定(配管中のエアかみ)
・ フィルターの圧力損失増大 - ‘RDOシリーズ’は、これらの原因となる気泡(Bubble)を効率よく除去することを可能にします。
